国产半导体专用光刻胶实现重大突破望开创国内半导体光刻制造新局面

武汉太紫微光电科技有限公司在半导体专用光刻胶领域实现重大突破，其推出的T150A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。

在半导体制造的生态系统中，光刻机和光刻胶是两个关键的环节，它们共同决定了芯片制造的精度和效率。根据Gartner的预测，全球光刻胶市场未来几年将保持强劲增长，预计到2028年，市场规模将达到75亿美元，年复合增长率（CAGR）约为8.7%。国内市场光刻胶国产化率尚在20-25%之间，未来增长空间明显。

相关个股：

晶瑞电材(300655)： 是国内最具研发潜力和量产能力的光刻胶供应商，拥有紫外宽谱、g线、i线、KrF、ArF全系列光刻机以及配套测试实验设备，研发团队经验丰富且人员充足；紫外宽谱系列光刻胶多年来稳居国内市占率第一。

南大光电(300346)： 有三款ArF光刻胶产品通过客户验证并实现少量销售，客户主要是国内集成电路芯片制造企业。

第二届全国低空经济产业创新博览会即将举行低空经济发展加速

第二届全国低空经济（苏州）产业创新博览会将于10月18日至20日在阳澄国际电竞馆盛大举行，会上将举行苏州市低空技术创新中心等一系列揭牌、授牌仪式，发布苏州市低空服务监管平台、低空经济起降点规划、航路航线，签约一批重点项目，释放推动低空经济发展的强烈信号。

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苏交科(300284)： 在京津冀、长三角及粤港澳等地区密集布局低空应用飞行服务、无人机设备检测与鉴定、低空飞行培训、低空经济产业发展研究、低空飞行基础设施及监管体系建设、各类应用场景策划与开发等六大业务方向。

莱斯信息(688631)： 作为空管系统领域的龙头，积极开展低空飞行服务、无人机运行管理、有人/无人协同信息平台等系列产品研制，布局未来低空管制及运营服务。

国产光刻胶通过量产验证 半导体领域需求快速增长

武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计。该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列，在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，对后道刻蚀工艺表现更为友好。

相关个股：

彤程新材(603650)： 上半年导入多款高分辨KrF、ArF光刻胶(含干式和浸润式)和BARC底部抗反射涂层等产品陆续通过客户认证，其中ArF光刻胶已开始形成销售。

雅克科技(002409)： 的OCPS光刻胶产线建设完成，产品正在客户端导入测试。

国家战略 我国空间科学发展路线图绘就

这是我国空间科学领域首个国家层面统一的中长期发展规划。规划描绘了至2027年、2028—2035年和2036—2050年三个阶段实施的科学任务规划，形成了至2050年我国空间科学发展路线图。该规划是当前和今后一个时期指导我国空间科学任务部署、开展空间科学研究的依据。

相关个股：

中科星图(688568)：公司主营业务是为特种领域、政府、企业等用户提供软件销售与数据服务、技术开发与服务、专用设备以及系统集成等业务。

天奥电子(002935)：公司主要从事时间频率产品、北斗卫星应用产品的研发、设计、生产和销售。

重点围绕原子级制造等新赛道 发展壮大独角兽企业

将重点围绕原子级制造、脑机接口、6G等新领域新赛道，发展壮大独角兽企业。同时工信部高新技术司召开2024原子级制造创新发展座谈会，深入研讨《原子级制造创新发展实施意见（2025—2030年）》，重点从布局科技创新和建设产业生态两方面推进原子级制造创新发展，打造原子级制造产业创新高地，加速推动原子级制造科技创新和产业创新深度融合发展。

相关个股：

微导纳米(688147)：公司形成了以原子层沉积（ALD）技术为核心，CVD等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系，主要从事先进微、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产和销售。

国林科技(300786)：公司专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运营及维护。

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